세라믹 제품
히터 및 열관리 솔루션
고온에서 온도 균일성 향상
40년 이상 반도체 히터 솔루션과 반도체 화합물을 설계해 온 Momentive Technologies는 고객의 크리스털 및 웨이퍼 가공 장비 차별화에 도움을 드릴 수 있습니다. Momentive Technologies는 오랜 경험을 바탕으로 500°C 이상의 고온 응용 분야와 열 균일성(<2°C) 향상 및 전체 소유 비용에 초점을 맞추어 다양하고 새로운 히터 솔루션을 설계했습니다.
특성 및 장점
- 열 충격에 저항성이 높고 안정적인 소재로 히터 수명 손상 없이 최대 1500°C까지 연속 작동이 가능합니다
- 각 사이클에 소요되는 시간이 짧고 100°C/sec 이상의 온도 램핑 속도로 인해 한꺼번에 많은 작업 처리하고 절전 효과도 높습니다
- 여러 영역 조정 가능성, 전반적 설계의 다양성 및 우수한 3D 기능으로 웨이퍼의 열 균열성이 우수합니다
- 우수한 전기 저항과 저항 조정 능력으로 고온 정전기 처킹에 활용할 수 있습니다
Momentive Technologies는 고객의 열, 전력, 크기 사양에 정확하게 부합하도록 pBN/PG 히터, TaC 히터, 히터 모듈 및 열 레벨러를 제조하고 있습니다. 전문 엔지니어 팀이 분석 화학 시험 관련 풀 서비스를 제공하며 고객 여러분과 사업에 적합한 솔루션 설계를 도와드립니다.
활용 분야
- 이온 주입, 스퍼터링, 증착, MBE, ALD, MOCVD, PECVD 및 RTP와 같은 반도체 공정 장비
- OLED 전극, CIGS 태양전지 공정 장비 등 금속 증착 및 용융금속 공정 장비
- 고온 유리 성형
pBN 히터 및 척(ESC)
pBN/PG 히터는 열 균일성이 우수하여(웨이퍼에서 2°C) 1700°C 이상의 초고도 진공에서도 작동할 수 있습니다. 부스러짐과 균열이 발생하지 않는 내화 소재이므로 고온 화학 기상 증착 방법으로 생산하여 탁월한 순도를 자랑하고, 대부분의 부식성 가스 및 액체에 불활성이고 용융금속에도 영향을 받지 않습니다. Momentive Technologies는 고객의 필요에 따라 고온(최대 1000°C) 웨이퍼 가공에 적합하도록 히터 척(ESC)을 맞춤 설계하여 드립니다.
TaC 히터
TaC 코팅 흑연 히터는 고온에서 안정적이고 내화학성이 높아 열악한 환경에서도 그 수명이 길고, 장비 유지 보수 주기와 비용이 저렴하면서도 생산 수율이 높은 강력한 히팅 솔루션입니다. TaC 히터는 2200°C 이상에도 안정적이며 H2, NH3, SiH4 및 CH4에도 저항성을 발휘합니다.
| 밀도(gm/cm3) | 방사율 | CTE (x10-6/K) | 경도(HK) | 저항(Ohm-cm) | 열 안정성 | NH3에서의 식각율(μm/hr) | H2에서의 식각율(μm/hr) | 두께 변화 | |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
TaC |
14.3 |
0.3 |
6.3 |
2000 |
1x10-5 |
>2200°C |
0.2 |
0.1 |
-5% |
|
SiC |
3.2 |
0.8 |
4.5 |
2800 |
2x10-3 |
<1600°C |
1.5 |
1.7 |
-10% |
일반적 수치.
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열 레벨러
독보적인 열분해 흑연(TPG, 1500W/mK) 기반의 레벨러를 사용하면 신규 모듈/페디스털 솔루션의 균일성이 매우 탁월하게 향상됩니다. 기존의 패디스털에 활용해도 균일성이 크게 개선됩니다. 반도체 히터 시장에 대한 Momentive Technologies의 축적된 지식과 수십 년간 항공우주 및 군사 시장에 열 관리 방열판을 공급한 경험을 바탕으로 개발한 Momentive Technologies만의 열 레벨러는 3배나 개선된 균일성을 보입니다. 이 모든 제품은 기존의 히터 솔루션에 훌륭하게 적용할 수 있습니다. 기존 솔루션에 적용시 수율과 처리량이 개선됩니다.
모듈
pBN 히터 및/또는 척이 포함된 맞춤형 플러그 앤 플레이 통합 모듈은 열 균일성과 처리량이 높고, 유지 관리가 더욱 편리하며 수명도 매우 깁니다.
