세라믹 제품

TAC 코팅 흑연로 부품

SiC 및 AIN 결정 성장

Momentive Technologies는 탄탈륨 카바이드(Tantalum Carbide, TaC) 코팅이라고 하는 독보적인 코팅 기술을 보유하고 있습니다. TaC는 고온에서 안정적이고 내화학성이 높아 흑연과 접촉하는 오염을 억제하고 흑연 부품 수명을 연장하며 승화 화학량론을
유지합니다.

궁극적으로 TaC 코팅 흑연 부품은 물리적 기상 수송(Physical vapor transport, PVT) 및 고온 화학 기상 증착(High-temperature chemical vapor deposition, HT-CVD) 원리를 통해 SiC 및 AlN 결정 성장의 공정 수율과 결정 품질을 개선하게 됩니다.

주요 특성

  • 온도 안정성 >2200 °C
  • 초고순도
  • Si 및 H에 대한 내성
  • 열 충격 저항성
  • 흑연에 강한 접착력
  • 컨포멀 코팅 커버리지
  • 최대 직경 750mm 크기

활용 분야

  • 크루시블(Crucible)
  • 뚜껑(Lid)
  • 시드 홀더(seed holder)
  • 링(Ring)
  • 인젝터(Injector)
  • 서셉터(Susceptor)

높은 결정성과 우수한 균일성을 보이는 TaC 코팅

TaC-Coating-with-High-Crystallinity-and-Uniformity-40
40µm
TaC-Coating-with-High-Crystallinity-and-Uniformity-02
40µm

TaC 코팅과 정제된 연구 등급의 흑연 비교

단위(ppm. 중량) B N O Si S Cl Nb
TaC
<0.01
15
40
<0.01
<0.01
14
14
흑연
1
480
260
2
5
2
<0.01

TAC 코팅 흑연 크루시블와 기존 흑연 크루시블에서 성장시킨 SiC 웨이퍼의 일반적 결함 비교

TAC 코팅 흑연 크루시블와 기존 흑연 크루시블에서 성장시킨 SiC 웨이퍼의 전기적 특성 비교

벌크 농도 벌크 저항성 이동성
TaC
8 x 1015/cm
4.5 ohm-cm
237 cm2/Vs
흑연
5 x 1017/cm
0.1 ohm-cm
151 cm2/Vs

TaC와 SiC 코팅의 일반적 특성 비교

밀도(gm/cm3) 방사율(1) CTE (x10-6/K) 경도(HK) 저항(Ohm-cm) 열 안정성 NH3에서의 식각율(μm/hr)(2) H2에서의 식각율(μm/hr)(3) 두께 변화
TaC
14.3
0.3
6.3
2000
1x10-5
>2200 °C
0.2
0.1
~5%
SiC
3.2
0.8
4.5
2800
2x10-3
<1600 °C
1.5
1.7
~10%

참고 : 시험 데이터입니다. 실제 결과는 다를 수 있습니다.
일반적인 특성은 평균적인 데이터에 근거한 것이므로 개발 사양이 아니며, 개발 사양으로 사용하여서도 안 됩니다.
(1) 방사율은 1000 °C, 950nm에서 측정한 수치입니다.
(2) 식각율은 1400 °C와 500 토르, NH3에서 측정한 수치입니다.
(3) 식각율은 1400 °C와 760 토르, H2에서 측정한 수치입니다.

제품 데이터시트 다운로드

TAC 코팅 흑연로 부품

This field is for validation purposes and should be left unchanged.

자세한 정보 보기

TAC 코팅 흑연로 부품

Hidden
성명*
This field is for validation purposes and should be left unchanged.

台湾办事处

No. 6, 10th Floor, No. 65, Gaotie 7th Road, Zhubei City, Hsinchu, Taiwan

中国办事处

No. 1088 Yuanshen road, Suite 1101 Ping’an Fortune Building, Shanghai 200122, China

+86 21 5848 1388

한국사무소

Momentive Technologies Korea Ltd.

7F of WONIK Building, 20, Pangyo-ro 255beon-gil, Bundang-gu, Seongnam-si, Gyeonggi-do,
Republic of Korea

+82 31 8038 9069

日本オフィス

Momentive Technologies Japan KK

Park West 10th floor, 6-12-1, Nishi-Shinjuku, Shinjuku-ku, Tokyo 1600023,
Japan

+81 3 6721 1910